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詳解立式真空爐的特點(diǎn)

時(shí)間:2019-12-26 15:18:33 作者:小編 點(diǎn)擊:

  立式真空爐是真空爐的一種,是在在真空環(huán)境中加熱的一種設(shè)備.爐內(nèi)加熱系統(tǒng)可使用硅碳棒,硅鉬棒等發(fā)熱元件.一般主要用在陶瓷燒結(jié),金屬耐火材料冶煉,退火,大學(xué)實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)等領(lǐng)域 .爐膛真空度可達(dá)133×(10-2~10-4)h。

  1、控溫精度:±1℃ 爐溫均勻度:±1℃.

  2、微電腦全自動(dòng)控制,可編制多段升、保、降溫曲線,全自動(dòng)升溫、保溫、降溫和超溫保護(hù),程序運(yùn)行結(jié)束自動(dòng)停止,無(wú)須值守。多段升、保、降溫曲線儀

  3、立式真空爐升溫快、高節(jié)能、高精度、高穩(wěn)定性、保溫性能好.

  4.、立式真空爐爐體溫度接近室溫、 可通多種氣體(氧氣、氮?dú)狻鍤狻錃獾?.

  5、立式真空爐爐膛全部采用進(jìn)口摩根纖維,保溫性能好,抗熱震、耐溫高、耐急冷急熱.

  6、立式真空爐具有水冷系統(tǒng):循環(huán)水冷(具有節(jié)能水源).